真空电镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。它们都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的**优点,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,PVD电镀加工厂,一般用来作较产品的功能性镀层,PVD电镀厂,例如作为内部屏蔽层使用。常见的塑胶产品电镀工艺有两种:水电镀和真空离子镀。
真空电镀的前处置在电镀出产线上是电镀技术中十分关键的一步,基体资料外表处置的好坏直接影响镀层的质量,因而应对电镀前处置恰当的注重。
镀件的镀前处置是决议电镀质量的较重要要素之一。在实习出产中,电镀故障率80%以上出在前处置工序,所以电镀前处置作用的好坏就显得尤为重要,下面详细介绍基体的外表状况对镀层布局和联系力的影响。
一,基体外表状况对镀层布局的影响
真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的,晶体的大小、形状及摆放方法决议着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中,金属镀层的布局特性也是不一样的,主要是堆积进程不一样所造成的。开端电镀时,基体资料外表首要生成一些纤细的小点,即结晶核,跟着时刻添加,单个结晶数量添加,并相互衔接成片,构成镀层。
二、基体外表状况对联系力的影响
联系力通常是指一个物体粘刭另一个物体上的规模和程度。若一个镀层因机械力或变形而掉落,或被气体吹脱,或是被腐蚀而剥离,则镀层缺少联系力。联系力是电堆积的重要性能指标,它与基体资料电镀前的外表状况有着十分直接而重要的联系,PVD电镀公司,而联系力的好坏又直接影响着镀层的好坏。
若是基体资料外表存在着很多的油污、锈蚀产品等污物,电镀层不能直接与基体资料外表相联系,然后致使镀层的逐渐起皮、掉落等,这也是镀层与基体资料外表联系力不良的原因。相反,若是在电镀前,电镀出产线上的基体资料外表得到了较好的清洗,电镀层就会直接接触到基体资料的外表,并与之结实联系。
三、基体外表状况对掩盖才能的影响
基体资料的外表状况是影响掩盖才能的主要要素之一。实习标明,金属在不一样基体资料上电堆积时,同一镀液的掩盖才能不一样也很大。如用铬酸溶液镀铬,金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时,镀液的掩盖才能顺次递减。这是因为当金属离子在不一样的基体资料上复原堆积时,其过电位的数值有很大的不一样。过电位较小的分出电位较正,PVD电镀,即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值,因而其掩盖才能较好。基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。
真空镀与水电镀的区别是什么呢?
两种工艺区别:
水电镀因工艺较简单,从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻,从而被广泛应用。水电镀有个弱点,只能镀ABS料和ABS+PC料(此料镀的效果也不是很理想)。而ABS料耐温只有80℃,这使得它的应用范围被限制了。而真空电镀可达200℃左右,这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了。像风嘴、风嘴环使用PC料,这些部件均要求耐130℃的高温。另外,一般要求耐高温的部件,做真空电镀都要在较后喷一层UV油,这样使得产品表面即有光泽、有耐高温、同时又保证附着力。